MDW Edelstahl-Vortex-Magnetpumpe
Produktübersicht
Die magnetgekuppelten Hoch- und Tieftemperatur-Wirbelpumpen der MDW-Serie zeichnen sich durch medienberührende Teile aus Edelstahl, Messing und Gusseisen aus. Dank fortschrittlicher Hydrauliktechnologie, hocheffizienter Magnetantriebe und innovativem Design bieten diese Pumpen durch präzise Bearbeitung und Fertigung höchste Energieeffizienz, Sicherheit, Zuverlässigkeit, stabilen Betrieb und lange Lebensdauer. Sie finden breite Anwendung in mittel- bis hochpreisigen Bereichen.
Produktmerkmale
- Das Laufrad verfügt über eine hoch verschleißfeste Oberflächenbehandlung
- Vorwärts- und Rückwärtsförderung des Mediums für Befüll- und Entleerungsvorgänge im Kreislauf
- Hochdruckbeständige Technologie
- Hochfeste und verschleißfeste Spaltrohr-Technologie
- Mehrere Wellenkonfigurationen für Hochtemperatur- und Hochdruckbedingungen verfügbar
- Kontaminationsfreier Edelstahl-Medienpfad mit statischer Abdichtung für Halbleiter-Prozessmedien
- Stabile Hydraulik bei kleinem Volumenstrom und hoher Förderhöhe bis 220 m für präzise TCU-, Kühler- und CMP-Temperaturregelkreise
- Geeignet für Wasser-Glykol-Gemische in der Direct-to-Chip-Flüssigkühlung von KI-Rechenzentren
Technische Daten
| Modell | Durchmesser | Motor | Leistungsparameter | Pumpengewicht (kg) | ||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Einlass | Outlet | Leistung (kW) | (HP) | Spannung (V) | Frequenz (Hz) | Geschwindigkeit (U/min) | Maximale/Nennhöhe (m) | Maximale Fördermenge (l/min) | ||
| MDW-024 | DN15 | DN15 | 0,18 | 0,24 | 3ø-380 | 50 | 2760 | 15/10 | 15 | 7,5 |
| MDW-033 | DN15 | DN15 | 0,25 | 0,33 | 3ø-380 | 50 | 2760 | 20/12 | 15 | 9 |
| MDW-05 | DN15 | DN15 | 0,37 | 0,5 | 3ø-380 | 50 | 2760 | 30/20 | 30 | 9,5 |
| MDW-07 | DN15 | DN15 | 0,5 | 0,7 | 3ø-380 | 50 | 2760 | 40/30 | 25 | 10 |
| MDW-07T | G1/2" | G1/2" | 0,5 | 0,7 | 3ø-380 | 50 | 2760 | 50/40 | 40 | 10 |
| MDW-10H | DN15 | DN15 | 0,75 | 1 | 3ø-380 | 50 | 2760 | 75/50 | 30 | 10 |
| MDW-10 (T) | DN20 | DN20 | 0,75 | 1 | 3ø-380 | 50 | 2760 | 45/30 | 45 | 10 |
| MDW-15 (T) | DN20 | DN20 | 1.1 | 1,5 | 3ø-380 | 50 | 2760 | 60/40 | 60 | 17 |
| MDW-23 (T) | DN25 | DN25 | 1.7 | 2.3 | 3ø-380 | 50 | 2760 | 65/50 | 90 | 22 |
| MDW-33 (T) | DN25 | DN25 | 2,5 | 3.3 | 3ø-380 | 50 | 2760 | 90/60 | 90 | 26 |
| MDW-40 | DN25 | DN25 | 3 | 4 | 3ø-380 | 50 | 2900 | 100/70 | 100 | 35 |
| MDW-50 (E) | DN32 | DN32 | 4 | 5 | 3ø-380 | 50 | 2900 | 90/70 | 200 | 55 |
| MDW-75E | DN40 | DN40 | 5,5 | 7,5 | 3ø-380 | 50 | 2900 | 220/130 | 106 | 60 |
*Die obigen Kennwerte basieren auf Wasserförderung bei Normaldrehzahl und 20°C. Der Toleranzbereich der Leistungsparameter liegt bei etwa ±10%. Die Pumpenleistung variiert je nach Mischungsverhältnis und Dichte des flüssigen Mediums.
Pumpenstruktur
Die Produktionsstruktur der MDS-Pumpe besteht aus Pumpendeckel, Spindel, Laufrad, Pumpenkörper, Achshülse, Dichtungsring, Innenmagnet, Isolierdeckel, Außenmagnet und Motor und bildet eine verschleißfeste, leckagefreie Baugruppe für den Transfer von kryogenen und Hochtemperaturflüssigkeiten.
Leistungskennlinie
Die Produktionsstruktur der MDS-Pumpe besteht aus Pumpendeckel, Spindel, Laufrad, Pumpenkörper, Achshülse, Dichtungsring, Innenmagnet, Isolierdeckel, Außenmagnet und Motor und bildet eine verschleißfeste, leckagefreie Baugruppe für den Transfer von kryogenen und Hochtemperaturflüssigkeiten.
Betriebsbedingungen
| Mittlere Temperatur | Mittlere Dichte | Umgebungstemperatur | Maximale Höhe | Maximaler Widerstandsdruck |
|---|---|---|---|---|
| -196 °C ~ +400 °C | 0,6 ~ 2,0 | -50 °C ~ +70 °C | 5000 m | 70 bar |
Einsatzgebiet
Die MDW wird in vier Anwendungsgruppen eingesetzt, in denen extreme Temperaturen, Leckagefreiheit und Leistung bei kleinem Volumenstrom und hoher Förderhöhe zusammentreffen.
Halbleiterfertigung
Präzise Temperaturregelung und Medienzirkulation für Wafer-Polier- und Reinigungslinien, CMP-Temperaturkonditionierung (chemisch-mechanische Planarisierung), Dünnschichtdepositionsanlagen (CVD/PVD), Kühlung von Ätzsystemen sowie Verpackungs- und Testsysteme einschließlich Thermochucks und Thermal-Stream-Systemen. Die spaltrohrbasierte statische Abdichtung und der Medienpfad aus Edelstahl schützen hochreine Prozessmedien vor Kontamination und die Fab-Umgebung vor Leckagen.
KI- und Rechenzentrumskühlung
Sekundärseitige Zirkulation in der Direct-to-Chip-Flüssigkühlung, Coolant Distribution Units (CDUs), Rack-Verteiler und thermische Prüfstände für KI-Server und Hochleistungsrechner. Die Pumpe fördert Wasser-Glykol-Gemische bei stabilem Druck und kleinem Volumenstrom; die Vorwärts-/Rückwärtsfunktion unterstützt Befüllung, Entleerung und Spülung bei Inbetriebnahme und Wartung der Kühlkreisläufe.
Temperaturregelsysteme
Hochtemperatur-Werkzeugtemperierung, Hoch-Tieftemperatur-Prüfkammern und -geräte, Temperiersysteme für Schablonen und Werkzeuge/Platten, TCU-Skids (Temperature Control Unit) und Ultraschallreinigungsanlagen.
Chemie- und Prozessindustrie
Chemische Prozessanlagen, hochwertige Druck- und Färbeanlagen sowie andere mittlere bis gehobene Zirkulationsaufgaben, die hohe Förderhöhen bei kompakter Bauweise erfordern.
Produktzertifizierung
