MDH(L) Edelstahl-Wirbelmagnetpumpe
Produktübersicht
Die magnetisch angetriebene Hoch- und Tieftemperatur-Wirbelpumpe MDH verfügt über medienberührende Teile aus Edelstahl und eignet sich für die Förderung von Gas-Flüssigkeits-Gemischen. Die Pumpe arbeitet mit einem dichtungslosen Magnetantrieb, der die dynamische Abdichtung in eine statische Abdichtung umwandelt und so einen sicheren und stabilen Betrieb sowohl unter kryogenen als auch unter Hochtemperaturbedingungen gewährleistet.
Produktmerkmale
- Proprietäre verschleißfreie Laufradtechnologie
- Einzigartige Förderfähigkeit für Gas-Flüssigkeits-Mischphasen, einschließlich Medien mit gelöstem Gas und Nanoblasen
- Verbesserte Lagerstützstabilitätstechnologie
- Magnetantriebsdesign für extrem hohe Temperaturen, Medienfenster von −196 °C bis +400 °C
- Präzisions-Feinguss bei mittleren Temperaturen mit mehrstufiger Oberflächenbehandlung
- Kontaminationsfreier Fluidpfad aus Edelstahl 316 mit statischer Abdichtung für Halbleiter-Prozessmedien
- Stabile Hydraulik bei geringem Durchfluss und hoher Förderhöhe für präzise TCU-, Kältemaschinen- und CMP-Temperaturregelkreise
- Geeignet für Wasser-Glykol-Gemische und dielektrische Kühlmittel der Direct-to-Chip-Flüssigkühlung in KI-Rechenzentren
- Kompakte, skid-montierbare Bauweise mit einem Nenndruck von 4,0 MPa
Technische Daten
| Modell | Durchmesser | Motor | Leistungsparameter | Pumpengewicht (kg) | ||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Einlass | Outlet | Leistung (kW) | Leistung (PS) | Spannung (V) | Frequenz (Hz) | Geschwindigkeit (U/min) | Maximale / Nennförderhöhe (m) | Maximale Kapazität (m³/h) | ||
| MDH-05 | DN20 | DN15 | 0,37 | 0,5 | 3Ø-380 | 50 | 2760 | 50 / 30 | 0,8 | 11 |
| MDH-07 | DN20 | DN15 | 0,5 | 0,7 | 3Ø-380 | 50 | 2760 | 80 / 50 | 0,5 | 12 |
| MDH-10 | DN25 | DN20 | 0,75 | 1 | 3Ø-380 | 50 | 2760 | 55 / 35 | 0,9 | 16 |
| MDH-15 | DN25 | DN20 | 1.1 | 1,5 | 3Ø-380 | 50 | 2760 | 80 / 55 | 2.4 | 18,5 |
| MDH-20 | DN40 | DN32 | 1,5 | 2 | 3Ø-380 | 50 | 2760 | 90 / 60 | 2.8 | 26 |
| MDH-30 | DN40 | DN32 | 2.2 | 3 | 3Ø-380 | 50 | 2760 | 100 / 70 | 1.7 | 29 |
| MDH-40 | DN40 | DN32 | 3 | 4 | 3Ø-380 | 50 | 2900 | 120 / 80 | 3.7 | 37 |
| MDH-50 | DN50 | DN40 | 4 | 5,5 | 3Ø-380 | 50 | 2900 | 62 / 40 | 13 | 67 |
| MDH-75 | DN50 | DN40 | 5,5 | 7,5 | 3Ø-380 | 50 | 2900 | 65 / 50 | 11 | 69 |
| MDH-75Z | DN50 | DN40 | 5,5 | 7,5 | 3Ø-380 | 50 | 1470 | 74 / 50 | 9,8 | 78 |
| MDH-100 | DN65 | DN50 | 7,5 | 10 | 3Ø-380 | 50 | 1470 | 80 / 50 | 24,9 | 193 |
| MDH-150 | DN65 | DN50 | 11 | 11 | 3Ø-380 | 50 | 1470 | 100 / 60 | 24 | 229 |
| MDH-200 | DN80 | DN65 | 15 | 20 | 3Ø-380 | 50 | 1470 | 80 / 38 | 44 | 332 |
| MDH-250 | DN80 | DN65 | 18,5 | 25 | 3Ø-380 | 50 | 1470 | 100 / 40 | 60 | 352 |
| MDH-300 | DN80 | DN65 | 22 | 30 | 3Ø-380 | 50 | 1470 | 120 / 50 | 69,8 | 361 |
*Die obigen Kennwerte basieren auf Wasserförderung bei Normaldrehzahl und 20°C. Der Toleranzbereich der Leistungsparameter liegt bei etwa ±10%. Die Pumpenleistung variiert je nach Mischungsverhältnis und Dichte des flüssigen Mediums.
Pumpenstruktur
Explosionszeichnung der MDH(L)-Wirbelmagnetantriebspumpe aus Edelstahl mit Laufrad, Innen- und Außenmagneten, Lagern, Antriebswelle, Kupplung und Motorstruktur
Leistungskennlinie
Explosionszeichnung der MDH(L)-Wirbelmagnetantriebspumpe aus Edelstahl mit Laufrad, Innen- und Außenmagneten, Lagern, Antriebswelle, Kupplung und Motorstruktur
Betriebsbedingungen
| Mittlere Temperatur | Mittlere Dichte | Umgebungstemperatur | Maximale Höhe | Maximaler Widerstandsdruck |
|---|---|---|---|---|
| −196 °C bis +400 °C | 0,6–2,0 | -50 °C bis +70 °C | 5000 m | 40 bar |
Einsatzgebiet
Die MDH(L) wird in vier Anwendungsgruppen eingesetzt, in denen extreme Temperaturen, Leckagefreiheit und hohe Förderhöhen bei geringem Durchfluss zusammentreffen.
Halbleiterfertigung
Präzise Temperaturregelung und Chemikalienzirkulation für Wafer-Polier- und Reinigungslinien, CMP-Temperierung (chemisch-mechanische Planarisierung), Dünnschichtabscheidungsanlagen (CVD/PVD), Kühlung von Ätzsystemen sowie Verpackungs- und Testhandler einschließlich Thermo-Chucks und Thermal-Stream-Systemen. Die leckagefreie statische Einkapselung und der Fluidpfad aus Edelstahl 316 schützen hochreine Prozessmedien vor Kontamination und die Fab-Umgebung vor Leckagen.
KI- und Rechenzentrumskühlung
Sekundärseitige Zirkulation in der Direct-to-Chip-Flüssigkühlung, in Kühlmittelverteileinheiten (CDUs), Rack-Verteilern und thermischen Prüfständen für KI-Server und Hochleistungsrechnen. Die Pumpe fördert Wasser-Glykol-Gemische und dielektrische Kühlmittel bei stabilem Niederdruck-Durchfluss und unterstützt das kontinuierliche Wärmemanagement von GPU-Clustern.
Temperaturregelsysteme
Hochtemperatur-Formtemperaturregelung, Hoch- und Tieftemperatur-Prüfkammern, Form-/Platten-Temperaturregelungssysteme, TCU-Skids (Temperaturregeleinheit) und Ultraschallreinigungsanlagen.
Chemie- und Prozessindustrie
Anlagen zur chemischen Verarbeitung, Vakuum-/Unterdruckrektifikation, Dosier- und Messskidanlagen, Wasserstofferzeugungssysteme, Ozongeneratoren und High-End-Druck- und Färbeanlagen.
Produktzertifizierung
